面向 Wafer 晶圆制造与 OSAT 封装测试的高阶 SPC。解决非正态分布拟合、多头 (Multi-Head) 一致性及 ATE 海量数据实时监控难题。
蚀刻深度、薄膜厚度、平面度等工艺参数,往往呈现偏态(Skewed)分布。传统 SPC 软件强行套用正态分布公式计算 CPK,导致大量虚假报警(False Alarm),工程师疲于奔命却找不到真问题。
固晶机 (Die Bonder) 和焊线机 (Wire Bonder) 往往有多个吸嘴或焊头。经常出现“整机 CPK 合格,但其中一个焊头在制造废品”的情况,传统图表难以发现局部异常。
自动测试设备 (ATE) 每秒产生数千个测试结果。人工导出数据再做分析完全滞后,无法拦截正在发生的批量不良。
把半导体的“真实分布、真实一致性、真实时效”拉回到统计模型与工程闭环里。
Statistical Accuracy
还原数据的真实面貌,拒绝数学模型的误判。针对半导体工艺中普遍存在的非正态数据,NEXSPC 内置了高级统计工具箱。
Head 7 error
Head-to-Head
监控每一根金线,不放过任何一个“短板”焊头。针对 Wire Bonder、Die Attacher 等多通道设备,NEXSPC 提供多维分组控制图与对比分析。
100+ 点/秒并发写入
WEB API / MQTT / WebSocket / OPC UA
跟上测试机的节拍,实现“测完即析”。面对封测厂海量的数据吞吐,NEXSPC 采用轻量化的工业互联协议与高并发写入架构。
Data Correlation & Root Cause Analysis
由果索因,找到影响良率的关键变量 (KCC)。良率下降了,是温度没控制好,还是压力波动?NEXSPC 把前道工艺参数与终测良率串成同一条“数据因果线索”。
从分布模型到数据时效,再到分析深度:每一项都直指良率与成本。
| 维度 | 传统 Excel / 通用 SPC 软件 | NEXSPC 半导体专用版 |
|---|---|---|
| 分布模型 | 默认正态分布,非正态数据 CPK 计算错误 | 自动拟合 Weibull/Log-Normal,Ppk 误差 <1% <1% |
| 多头管理 | 只能看设备整体能力,掩盖坏头问题 | 一键展开多焊头/吸嘴的分组对比与箱线图,精准定位短板 Head |
| 数据时效 | 每天/每班导出 ATE 报告,属于“事后检查” | MQTT 秒级采集,实时“体检”与拦截 |
| 分析深度 | 仅限于画图 | 提供 ANOVA、回归分析、Auto-Lag 等六西格玛级工具 |